Dong-Yul Shin, Chulyong Sim†, Bon-Keup Koo†, and Deok-Yong Park†*신동율·심철용†·구본급†·박덕용†*
Simmtech Co., Ltd., Chungju, Chungcheongbuk-Do 361-290, Republic of Korea
†Department of New Materials Engineering, Hanbat National University, Daejeon 305-719, Republic of Korea㈜ 심텍, †한밭대학교 신소재공학과
피로인산구리용액에서 전기도금공정을 이용하여 상온과 55oC에서 각각 제조된 Cu박막의 특성에
미치는 전류밀도, 도금용액 온도, pH의 영향에 대한 연구를 수행하였다. 전류효율은 전류밀도가
증가함에 따라 감소하였으나, 도금용액의 온도가 증가함에 따라 증가하는 경향을 나타내었다. 그
러나 pH 는 전류효율에 거의 영향을 미치지는 않았으며, 상온과 55oC에서 모두 90% 이상으로
측정되었다. 상온에서 전기도금 된 Cu 박막의 잔류응력은 전류밀도의 증가에 따라 감소하며, 60
mA/cm2 이상에서는 거의 0에 근접하였다. 55oC에서 전기도금 된 Cu 박막은 0~40 MPa의 잔류
응력을 나타내었다. 상온에서 도금하는 경우 수지상 표면 형상이 30 mA/cm2 이상의 전류밀도로
부터 관찰되었고, 55oC에서는 100 mA/cm2 이상의 전류밀도부터 관찰되었다. 상온과 55oC의 도
금용액으로부터 전기도금 된 Cu 박막은 거의 (111) 피크들로 구성되어 있다. 특히 55oC, 30
mA/cm2에서 전기도금 된 Cu 박막의 경우 (111) 피크의 강한 우선방향을 나타내었다.
Keyword : FCCL, Electrodeposition, Current density, Pyrophosphate bath, Residual stress, Current
efficiency